首 页 下载中心 网站地图 English
 
  您现在的位置: 北京英格海德分析技术有限公司 > 产品展示 > 等离子体-材料表面 > 分子束外延沉积速率监测/控制系统
 
 
分子束外延沉积速率监测/控制系统
Hiden’s XBS system provides in-situ monitoring of multiple sources with real-time signal output for precise control of the deposition.


XBS三级滤过四极质谱(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System),适于精确的MBE分析,其他气体分析和科学实验使用。Windows™ 界面的MASsoft软件通过RS232RS485 或以太网控制。

 

·离子源控制,用于软离子化和表观电势质谱
·灵敏度增强用于大质量数的传输,自动质量数范围列表

·一级过滤处增加射频,抗污染物能力增强
·内置UHV 兼容的水冷却罩

 

·灵敏度高,检测范围:  100% 5ppb

·质量数范围:              0~ 510amu
·长期稳定性:              24h以上,峰高变化小于±0.5%)
·交叉离子源,束接收角同轴的横断面呈 ±35°
·2mm 束接受孔,也可为特殊使用者配置
·分子束研究中,检测极限低至30 ions/s
·监测生长速率:       1Å / min,或更低

 
  应用介绍
  相关产品

© Copyright 2014. www.hiden.com.cn. All Rights Reserved 京ICP备05008133号  京公网安备11010802009820

ѯ