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超高真空残余气体分析四极质谱仪

A Residual Gas Analyser configured for demanding UHV applications.

Measures the concentration of gases and vapours in real time.

英国Hiden公司的HAL 201 RC超高真空残余气体分析四极质谱仪专为检测超高真空容器中的存在组分而设计,针对真空诊断进行精确的分析。

离子源为镀金离子源,适合应用在总压小于5 x 10-10mbar的领域,其系统与EPIC离子/分子分析质谱仪完全兼容。

 

 

            ·镀金离子源,以减少离子源脱气

            ·氧化物涂层双铱丝的离子源

            ·双法拉第/ Channeltron电子倍增器检测器


 

·质量数范围:   200300 amu

·扫描速度:      100amu/s

·最小扫描步阶:0.01amu

·灵敏度:         0.1 ppm1ppm

·稳定性:         24h以上,峰高变化小于±0.5%

·最小检测分压:5 x 10-14 mbar

·最大工作压力:1 x 10-4 mbar

 
  应用介绍
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