首 页 下载中心 网站地图 English
 
  您现在的位置: 北京英格海德分析技术有限公司 > 产品展示 > 残余气体分析 > 分子束外延沉积速率监测/控制系统
 
 
分子束外延沉积速率监测/控制系统

A system for multiple source monitoring in MBE deposition applications.

For molecular beam analysis and deposition control.

 

XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统(MBE Deposition Rate Monitoring/Control System),适于精确的MBE分析,其他气体分析和科学实验使用。

XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统的高灵敏度和数据的快速采集,能够提供生长速度低至0.01 Å/s的质谱信号。

 

·交叉离子源,束接收角同轴的横断面呈±35°

·离子源控制,用于软离子化和表观电势质谱

·2mm束接受孔,以利特殊使用者操作

·一级过滤处增加射频,抗污染物能力增强
·内置UHV兼容的水冷却罩   
·通过RS232USBEthernet连接计算机,MASsoft软件控制

 

·质量数范围:        1300 amu(标准配置)

                             500amu(选配)

·扫描速度:           100amu/s

·最小扫描步阶:     0.01amu

·检测浓度:           5ppb100%

·稳定性:              24h以上,峰高变化小于±0.5%

·最低监测极限:     30 ions/s
·监测生长速率:     1Å / min,或更低

 
  应用介绍
  相关产品

© Copyright 2014. www.hiden.com.cn. All Rights Reserved 京ICP备05008133号  京公网安备11010802009820

ѯ