分子束外延沉积速率监测/控制系统

A system for multiple source monitoring in MBE deposition applications.

For molecular beam analysis and deposition control.

仪器简介

主要特点

技术规格

相关应用

XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统(MBE Deposition Rate Monitoring/Control System)，适于精确的MBE分析，其他气体分析和科学实验使用。

XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统的高灵敏度和数据的快速采集，能够提供生长速度低至0.01 Å/s的质谱信号。

·交叉离子源，束接收角同轴的横断面呈±35°

·离子源控制，用于软离子化和表观电势质谱

·2mm束接受孔，以利特殊使用者操作

·一级过滤处增加射频，抗污染物能力增强
·内置UHV兼容的水冷却罩
·通过RS232、USB或Ethernet连接计算机，MASsoft软件控制

·质量数范围： 1～300 amu（标准配置）

500amu（选配）

·扫描速度： 100amu/s

·最小扫描步阶： 0.01amu

·检测浓度： 5ppb～100%

·稳定性： 24h以上，峰高变化小于±0.5%

·最低监测极限： 30 ions/s
·监测生长速率： 1Å / min，或更低